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              銅蝕刻液
              發布日期:
              2020-08-10

              瀏覽次數:

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                      我司生產的銅刻蝕液,能夠滿足大尺寸高分辨率的液晶顯示屏制程要求;

                      具有下列技術特征: 

                      1.刻蝕后金屬具有良好的刻蝕錐角;

                      2.無金屬殘渣;

                      3.含銅配線具有良好的CD Bias范圍;

                      4.銅承載能力高;5.含銅廢液易處理,等等。

                      超凈高純(VLSD) 試劑是大規模集成電路(IC) 及高檔半導體器件制造過程的專用化學品,主要用于硅單晶片的清洗、光刻、腐蝕工序中,它的純度和潔凈度對集成電路的成品率、電性能、可靠性都有著重要的影響。

                      超凈高純試劑通常由低純試劑或工業品經過純化精制而成,其工藝過程包括選料、提純、過濾、分裝、儲存等重要環節。

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